Abstract

DE LA CRUZ, W.; CONTRERAS, O.; SOTO, G.  and  PEREZ-TIJERINA, E.. Cobalt nitride films produced by reactive pulsed laser deposition. Rev. mex. fis. [online]. 2006, vol.52, n.5, pp.409-412. ISSN 0035-001X.

Los Nitruros de metales magnéticos han tomado gran importancia debido a sus potenciales aplicaciones tecnológicas. En este trabajo se han depositado capas delgadas de Nitruro de Cobalto usando la técnica de ablación láser pulsado reactivo en ambiente de nitrógeno. Se han usado sustratos de silicio a temperatura ambiente. Las capas resultantes se caracterizaron in situ por espectroscopías Auger, de foto-emisión de rayos X y de pérdida de energía. El enlace químico y la estequiometría están fuertemente correlacionados, y ambos son controlados simultáneamente por la presión durante el depósito. Concluimos que este método de síntesis permite tener un control muy fino de las propiedades de capas delgadas de Nitruro de Cobalto.

Keywords : Nitruro de Cobalto; espectroscopia de electrones fotoemitidos; espectroscopía de pérdidas de energía; capas delgadas; ablación láser.

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