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<abstract abstract-type="short" xml:lang="en"><p><![CDATA[In this work we report the sensing properties of undoped and ruthenium-doped tin oxide thin films (SnO2, SnO2:Ru) with different thicknesses, in a controlled atmosphere of propane gas (C3H8) at different operation temperatures. The films were deposited onto soda-lime glass substrates by the spray pyrolysis technique at different deposition temperatures, namely, 300, 350, 400, and 450°C. All the films were annealed in vacuum at 400°C during 1 h in order to stabilize the surface physical characteristics. The sensing properties of the films were characterized by the surface electrical resistance ratio in a C3H8 atmosphere, and air as reference. Maximum sensitivities, on the order of 1.4 and 7.4 were obtained for undoped SnO2, and, SnO2:Ru thin films, respectively.]]></p></abstract>
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</front><body><![CDATA[  	    <p align="center"><font face="verdana" size="4"><b>Aplicaci&oacute;n de peliculas delgadas de SnO<sub>2</sub> y SnO<sub>2</sub>:Ru como sensores de propano</b></font></p>  	    <p align="center"><font face="verdana" size="2">&nbsp;</font></p>  	    <p align="center"><font face="verdana" size="2"><b>Aguilar&#45;Leyva J., Maldonado A., Olvera M. de la L.*    <br> 	</b> <i>SEES, Departamento de Ingenier&iacute;a El&eacute;ctrica, CINVESTAV&#45;IPN Apdo. Postal 14740, M&eacute;xico D. F. 07000, M&eacute;xico.</i> *<a href="mailto:molvera@cinvestav.mx">molvera@cinvestav.mx</a></font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">&nbsp;</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">Recibido: 13 de agosto de 2011    <br> 	Aceptado: 28 de mayo de 2012</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">&nbsp;</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2"><b>Resumen</b></font></p>  	    ]]></body>
<body><![CDATA[<p align="justify"><font face="verdana" size="2">En este trabajo se reportan las propiedades sensoras de pel&iacute;culas de &oacute;xido de esta&ntilde;o puro, SnO<sub>2</sub>, y &oacute;xido de esta&ntilde;o impurificado intencionalmente con rutenio, SnO<sub>2</sub>:Ru, en una atm&oacute;sfera controlada de propano, C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>, a diferentes concentraciones y temperaturas de operaci&oacute;n. Las pel&iacute;culas, con espesor variable, fueron depositadas sobre substratos de vidrio sodoc&aacute;lcico mediante la t&eacute;cnica de roc&iacute;o qu&iacute;mico, a diferentes temperaturas de dep&oacute;sito, a saber, 300, 350, 400 y 450&deg;C. Previamente a su caracterizaci&oacute;n, todas las pel&iacute;culas fueron sometidas a un tratamiento t&eacute;rmico en vac&iacute;o a 400 &deg;C durante una hora, con el fin de estabilizar las caracter&iacute;sticas f&iacute;sicas de la superficie. Las sensibilidades de las pel&iacute;culas fueron cuantificadas mediante la raz&oacute;n de cambio de la resistencia el&eacute;ctrica superficial en una atm&oacute;sfera de C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>, respecto a su resistencia medida en aire. Sensibilidades m&aacute;ximas, del orden de 1.4 y 7.4 fueron obtenidas para las pel&iacute;culas de SnO<sub>2</sub> y SnO<sub>2</sub>:Ru, respectivamente.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2"><b>Palabras clave:</b> Pel&iacute;culas Delgadas; &Oacute;xidos Semiconductores; &Oacute;xido de Esta&ntilde;o; Sensores de Propano.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">&nbsp;</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2"><b>Abstract</b></font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">In this work we report the sensing properties of undoped and ruthenium&#45;doped tin oxide thin films (SnO<sub>2</sub>, SnO<sub>2</sub>:Ru) with different thicknesses, in a controlled atmosphere of propane gas (C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>) at different operation temperatures. The films were deposited onto soda&#45;lime glass substrates by the spray pyrolysis technique at different deposition temperatures, namely, 300, 350, 400, and 450&deg;C. All the films were annealed in vacuum at 400&deg;C during 1 h in order to stabilize the surface physical characteristics. The sensing properties of the films were characterized by the surface electrical resistance ratio in a C<sub>3</sub>H<sub>8</sub> atmosphere, and air as reference. Maximum sensitivities, on the order of 1.4 and 7.4 were obtained for undoped SnO<sub>2</sub>, and, SnO<sub>2</sub>:Ru thin films, respectively.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2"><b>Keywords:</b> Thin films, Semiconductor Oxides; Tin Oxide; Propane Gas Sensors.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">&nbsp;</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2"><b>1. Introducci&oacute;n</b></font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">Un gran n&uacute;mero de &oacute;xidos met&aacute;licos, OM, son adecuados para la detecci&oacute;n de gases reductores u oxidantes, entre los que podemos mencionar los siguientes: ZnO, Cr<sub>2</sub>O<sub>3</sub>, Mn<sub>2</sub>O<sub>3</sub>, Co<sub>3</sub>O<sub>4</sub>, NiO, CuO, CdO, MgO, SrO, BaO, In<sub>2</sub>O<sub>3</sub>, WO<sub>3</sub>, TiO<sub>2</sub>, V<sub>2</sub>O<sub>3</sub>, Fe<sub>2</sub>O<sub>3</sub>, GeO<sub>2</sub>, Nb<sub>2</sub>O<sub>5</sub>, MoO<sub>3</sub>, Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub>, La<sub>2</sub>O<sub>3</sub>, SnO, CeO<sub>2</sub>, y Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>. Sin embargo, el m&aacute;s utilizado hasta la fecha ha sido el SnO<sub>2</sub> &#91;1&#45;3&#93;.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">El funcionamiento de los llamados "sensores resistivos" de estado s&oacute;lido se basa en el cambio que sufre la resistencia el&eacute;ctrica superficial del material cuando es expuesto a una atm&oacute;sfera reductora (u oxidante). El cambio de resistencia es producido por la interacci&oacute;n del ox&iacute;geno superficial con los gases de la atm&oacute;sfera. Durante este proceso se generan (o atrapan) electrones libres en la superficie del OM, dando lugar a una disminuci&oacute;n (o incremento) de la resistencia el&eacute;ctrica superficial &#91;4&#45;7&#93;. En el caso particular de este trabajo, fue utilizado gas propano, C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>, el cual tiene un car&aacute;cter reductor, registr&aacute;ndose una disminuci&oacute;n de la resistencia el&eacute;ctrica superficial de las pel&iacute;culas.</font></p>  	    ]]></body>
<body><![CDATA[<p align="justify"><font face="verdana" size="2">En general, los sensores a base de OM han sido utilizados para sensar gases flamables y t&oacute;xicos que pueden estar presentes en una atm&oacute;sfera normal; por ejemplo: gas natural (CH<sub>4</sub>), gas LP (Liquefied Petroleum) y mon&oacute;xido de carbono (CO).</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">Respecto a los sensores de gases a base de SnO<sub>2</sub>, en la literatura cient&iacute;fica podemos encontrar un n&uacute;mero importante de publicaciones que reportan sobre la caracterizaci&oacute;n de pel&iacute;culas delgadas, depositadas por diversas t&eacute;cnicas de crecimiento, para la detecci&oacute;n de diferentes tipos de gases, tales como, H<sub>2</sub>, SO<sub>2</sub>, NO<sub>2</sub>, NH<sub>3</sub>, H<sub>2</sub>S, CH<sub>4</sub>, CO<sub>2</sub>, CO, LPG, etc. &#91;7&#45;10&#93;. Sin embargo, hasta donde hemos consultado, no existen reportes sobre la aplicaci&oacute;n de pel&iacute;culas de SnO<sub>2</sub> impurificadas con Rutenio (SnO<sub>2</sub>:Ru), depositadas mediante la t&eacute;cnica de roc&iacute;o qu&iacute;mico, como sensores de C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">Es bien sabido que la adici&oacute;n de un elemento catalizador en la regi&oacute;n superficial del &oacute;xido semiconductor incrementa su sensibilidad, e incluso puede mejorar la selectividad de la respuesta a un gas espec&iacute;fico y disminuir la temperatura de operaci&oacute;n. El efecto del catalizador se debe a la diferencia entre las funciones de trabajo del OM y el elemento catalizador, ya que al ponerlos en contacto se produce un vaciamiento de electrones hacia la regi&oacute;n de la superficie que conlleva al incremento de la cantidad de ox&iacute;geno previamente adsorbido. En consecuencia, como se describi&oacute; antes, este ox&iacute;geno adsorbido superficialmente puede reaccionar con los gases de la atm&oacute;sfera en una segunda etapa; este fen&oacute;meno es evidenciado a trav&eacute;s del cambio de resistencia el&eacute;ctrica de la superficie. De esta manera, entre mayor sea la cantidad de ox&iacute;geno adsorbido, mayor ser&aacute; la magnitud de la sensibilidad. Entre los elementos catalizadores m&aacute;s empleados est&aacute; el paladio, Pd, y el platino, Pt, sin embargo, en este trabajo nosotros estamos explorando la actividad catal&iacute;tica del Ru para sensar C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">Respecto a la selectividad de la respuesta de un sensor a un gas particular, ha sido demostrado ampliamente que &eacute;sta depende de la selecci&oacute;n del elemento catalizador y de la optimizaci&oacute;n de la temperatura de operaci&oacute;n, ya que el tipo y n&uacute;mero de reacciones entre el ox&iacute;geno adsorbido y un gas particular depende de estos factores.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">En este trabajo se reportan las propiedades sensoras de pel&iacute;culas de SnO<sub>2</sub> y SnO<sub>2</sub> impurificadas con 3 % at. de Ru con diferente espesor y depositadas a diferentes temperaturas de dep&oacute;sito mediante la t&eacute;cnica de roc&iacute;o qu&iacute;mico pirol&iacute;tico. La caracterizaci&oacute;n el&eacute;ctrica fue realizada en un ambiente controlado de C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>, a diferentes concentraciones y temperaturas de operaci&oacute;n.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">&nbsp;</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2"><b>2. Procedimiento Experimental</b></font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">Se depositaron pel&iacute;culas de SnO<sub>2</sub> puras e impurificadas intencionalmente con Ru mediante la t&eacute;cnica de roc&iacute;o qu&iacute;mico a partir de una soluci&oacute;n 0.2 M de cloruro est&aacute;nico penta&#45;hidratado (SnCl<sub>4</sub>&#183;5H<sub>2</sub>O&#45; Merck) disuelto en alcohol et&iacute;lico (Merck). Como precursor de Ru se utiliz&oacute; cloruro de rutenio (RuCl<sub>3</sub>&#183;H<sub>2</sub>O&#45; Alfa Aesar) a una raz&oacute;n at&oacute;mica &#91;Ru&#93;/&#91;Sn&#93;= 3 % at. Todas las pel&iacute;culas fueron depositadas sobre substratos de vidrio sodoc&aacute;lcico (dimensiones: 2 cm x 1 cm) a diferentes temperaturas de dep&oacute;sito, T<sub>s</sub>= 300, 350, 400 y 450<sup>o</sup>C. Para variar el espesor de las pel&iacute;culas se emplearon dos tiempos de dep&oacute;sito, que fueron 1.5 y 6 min. Los espesores se midieron con un perfil&oacute;metro KLA Tencor P15, con una resoluci&oacute;n de 0.15 nm, para lo cual se construy&oacute; un escal&oacute;n durante el dep&oacute;sito cubriendo una peque&ntilde;a parte de la muestra.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">La notaci&oacute;n utilizada para la identificaci&oacute;n de las diferentes muestras, es como sigue: SO300&#45;A, donde SO identifica a una muestra no impurificada (que puede ser tambi&eacute;n SOR para el caso de las muestras impurificadas con Ru), el 300 se refiere a la temperatura de sustrato (que puede ser tambi&eacute;n 350, 400 o 450 &deg;C), y A es el tiempo de dep&oacute;sito de 1.5 min (que puede ser tambi&eacute;n B para 6 min). Previo a la caracterizaci&oacute;n el&eacute;ctrica en C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>, todas las pel&iacute;culas fueron sometidas a un tratamiento t&eacute;rmico en vac&iacute;o durante 1 h a 400 <sup>o</sup>C, esto con el fin de estabilizar las condiciones de la superficie. Los contactos &oacute;hmicos, para realizar las mediciones el&eacute;ctricas, fueron dos l&iacute;neas met&aacute;licas paralelas que se fabricaron de manera posterior al tratamiento t&eacute;rmico, utilizando un adhesivo de pintura de plata (Alfa Aesar).</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">Las mediciones el&eacute;ctricas consistieron en monitorear la resistencia el&eacute;ctrica superficial de las pel&iacute;culas con un mult&iacute;metro digital de alta resistencia, Keithley 2001. Los sensores fueron calentados mediante una resistencia el&eacute;ctrica colocada en el interior de una placa de cobre. Este arreglo se encuentra dentro de una c&aacute;mara de vac&iacute;o, donde se controla electr&oacute;nicamente la concentraci&oacute;n de C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>, C<sub>C3</sub>H<sub>8</sub>, as&iacute; como la temperatura de operaci&oacute;n de los sensores, Tm. En la <a href="#f1">Fig. 1</a> se muestra un esquema del sistema utilizado para realizar las mediciones el&eacute;ctricas. Cabe mencionar que antes de introducir el C<sub>3</sub>H<sub>8</sub> a la c&aacute;mara, &eacute;sta es inicialmente evacuada hasta una presi&oacute;n de 1 mbar y despu&eacute;s llenada con nitr&oacute;geno puro en fase gaseosa, el cual es evacuado posteriormente hasta obtener nuevamente una presi&oacute;n de 1 mbar. La magnitud de C<sub>C3</sub>H<sub>8</sub> contenido en la c&aacute;mara es estimada de manera indirecta a partir de la ecuaci&oacute;n de estado mediante la medici&oacute;n de la presi&oacute;n final de la c&aacute;mara, considerando a los gases como ideales con una presi&oacute;n residual de nitr&oacute;geno de 1 mbar. La sensibilidad de las pel&iacute;culas se calcul&oacute; utilizando la siguiente expresi&oacute;n,</font></p>  	    ]]></body>
<body><![CDATA[<p align="center"><font face="verdana" size="2"><img src="/img/revistas/sv/v25n2//a10s1.jpg"></font></p>  	    <p align="center"><font face="verdana" size="2"><a name="f1"></a></font></p>  	    <p align="center"><font face="verdana" size="2"><img src="/img/revistas/sv/v25n2//a10f1.jpg"></font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">Donde <i>R</i><i><sub>o</sub></i> y <i>R</i><i><sub>g</sub></i> son las resistencias de la pel&iacute;cula medidas en una atm&oacute;sfera de referencia (aire) y C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>, respectivamente.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">Adicionalmente, se realiz&oacute; el an&aacute;lisis de la morfolog&iacute;a superficial mediante microscop&iacute;a de barrido electr&oacute;nico, SEM, utilizando un microscopio JEOL JCM&#45;6300. Las im&aacute;genes de SEM obtenidas nos permitieron determinar la relaci&oacute;n entre las propiedades sensoras de las pel&iacute;culas con su morfolog&iacute;a superficial.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">&nbsp;</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2"><b>3. Resultados y Discusi&oacute;n.</b></font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">La <a href="#f2">Fig. 2</a> presenta las magnitudes de los espesores de las dos series de pel&iacute;culas depositadas, SOR&#45;A y SOR&#45;B, para las diferentes temperaturas de dep&oacute;sito empleadas. En &eacute;sta se observa un incremento del espesor con la temperatura de dep&oacute;sito, de 10 a 28 nm para un tiempo de dep&oacute;sito de 1.5 min y de 40 a 75 nm para 6 min. Este resultado muestra que la raz&oacute;n de crecimiento es proporcional a la energ&iacute;a t&eacute;rmica suministrada en el proceso de formaci&oacute;n de las pel&iacute;culas.</font></p>  	    <p align="center"><font face="verdana" size="2"><a name="f2"></a></font></p>  	    <p align="center"><font face="verdana" size="2"><img src="/img/revistas/sv/v25n2//a10f2.jpg"></font></p>  	    ]]></body>
<body><![CDATA[<p align="justify"><font face="verdana" size="2">Las <a href="#f3">Figs. 3</a>&#45;<a href="#f7">7</a> reportan los valores de sensibilidad, <i>S,</i> en funci&oacute;n de la temperatura de dep&oacute;sito y de C<sub>C3</sub>H<sub>8</sub>, calculados a partir de la expresi&oacute;n matem&aacute;tica (1). En la <a href="#f3">Fig. 3</a> se muestra la variaci&oacute;n de <i>S</i> para las pel&iacute;culas dopadas con Ru, SOR&#45;A y SOR&#45;B, depositadas a diferentes temperaturas de dep&oacute;sito, y medidas a <i>T</i><i><sub>m</sub></i> y C<sub>C3</sub>H<sub>8</sub> constantes, a valores de 300&deg;C y 500 ppm, respectivamente. En esta figura se puede apreciar que las pel&iacute;culas m&aacute;s gruesas presentan una sensibilidad ligeramente mayor. Este resultado refiere que la superficie de las pel&iacute;culas m&aacute;s gruesas presenta mayor actividad qu&iacute;mica con el C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>. Por otro lado, se observa que ambas series de pel&iacute;culas muestran la misma tendencia de la sensibilidad, esto es, <i>S</i> aumenta con la temperatura de dep&oacute;sito. De lo anterior se deduce que las pel&iacute;culas depositadas a una temperatura de dep&oacute;sito mayor, T<sub>s</sub>=450&deg;C, son m&aacute;s convenientes para detectar C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>. Las sensibilidades m&aacute;ximas fueron del orden de 4.5 y 7.5, y fueron obtenidas para las pel&iacute;culas SOR450&#45;A y SOR450B, esto es, pel&iacute;culas depositadas a 450&deg;C durante de 1.5 y 6 min, respectivamente.</font></p>  	    <p align="center"><font face="verdana" size="2"><a name="f3"></a></font></p>  	    <p align="center"><font face="verdana" size="2"><img src="/img/revistas/sv/v25n2//a10f3.jpg"></font></p>  	    <p align="center"><font face="verdana" size="2"><a name="f4"></a></font></p>  	    <p align="center"><font face="verdana" size="2"><img src="/img/revistas/sv/v25n2//a10f4.jpg"></font></p>  	    <p align="center"><font face="verdana" size="2"><a name="f5"></a></font></p>  	    <p align="center"><font face="verdana" size="2"><img src="/img/revistas/sv/v25n2//a10f5.jpg"></font></p>  	    <p align="center"><font face="verdana" size="2"><a name="f6"></a></font></p>  	    <p align="center"><font face="verdana" size="2"><img src="/img/revistas/sv/v25n2//a10f6.jpg"></font></p>  	    <p align="center"><font face="verdana" size="2"><a name="f7"></a></font></p>  	    ]]></body>
<body><![CDATA[<p align="center"><font face="verdana" size="2"><img src="/img/revistas/sv/v25n2//a10f7.jpg"></font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">La <a href="#f4">Fig. 4</a> muestra el comportamiento de <i>S</i> en funci&oacute;n de <i>T</i><i><sub>m</sub></i> de las pel&iacute;culas de SnO<sub>2</sub> y SnO<sub>2</sub>:Ru depositadas a 450&deg;C, SO450&#45;A, SO450&#45;B, SOR450&#45;A y SOR450&#45;B, medidas en un intervalo de temperatura de 23 a 300&deg;C, y C<sub>C3</sub>H<sub>8</sub>= 500 ppm. De esta gr&aacute;fica es evidente que en todos los casos Tm favorece la respuesta de las pel&iacute;culas al gas, lo cual es resultado de la cat&aacute;lisis o activaci&oacute;n de las reacciones de adsorci&oacute;n&#45;desorci&oacute;n entre la superficie de la pel&iacute;cula y el C<sub>3</sub>H<sub>8</sub> con el incremento de Tm. De esta gr&aacute;fica, se puede observar tambi&eacute;n la conveniencia de utilizar pel&iacute;culas gruesas, ya que la sensibilidad de las series B es mayor. No obstante, cabe mencionar que, contrario al efecto del espesor observado en este trabajo, resultados obtenidos con otros dopantes, como es el caso de Pd y Pt, muestran que las pel&iacute;culas m&aacute;s delgadas son las que presentan la m&aacute;xima sensibilidad &#91;11&#93;. La m&aacute;xima sensibilidad se present&oacute; en la muestra SOR450&#45;B con un valor de 7.5, como se coment&oacute; anteriormente.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">Respecto al efecto del Ru, tambi&eacute;n se observan sensibilidades mayores en las pel&iacute;culas SOR450&#45;A y SOR450&#45;B, lo cual comprueba la actividad catal&iacute;tica del Ru en las pel&iacute;culas de SnO<sub>2</sub> en presencia de un gas reductor, como lo es el C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>. El efecto catal&iacute;tico del Ru se atribuye a la generaci&oacute;n de estados libres superficiales que atrapan iones de ox&iacute;geno inmediatamente despu&eacute;s del dep&oacute;sito, los cuales, posteriormente, son removidos mediante su reacci&oacute;n con el C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>, generando electrones libres en la regi&oacute;n de la superficie; fen&oacute;meno que es evidenciado por el cambio en la resistencia el&eacute;ctrica de la superficie de la pel&iacute;cula.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">En las <a href="#f5">Figs. 5</a> y <a href="#f6">6</a> se presentan las gr&aacute;ficas de <i>S</i> en funci&oacute;n de <i>T</i><i><sub>m</sub></i> para las muestras SOR&#45;A y SOR&#45;B depositadas a diferentes temperaturas de dep&oacute;sito, 300, 350, 400 y 450 &deg;C, y medidas en una C<sub>C3</sub>H<sub>8</sub>= 500 ppm. De la misma manera que en la <a href="#f4">Fig. 4</a>, en &eacute;stas se observa que <i>S</i> aumenta ligeramente con <i>T</i><i><sub>m</sub></i>, con excepci&oacute;n de la muestras depositadas a <i>T</i><i><sub>m</sub></i> =450&deg;C que muestran una mayor respuesta, registr&aacute;ndose valores m&aacute;ximos del orden de 4.5 y 7.5, respectivamente, para una <i>T</i><i><sub>m</sub></i> = 300&deg;C.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">Una vez m&aacute;s confirmamos que el proceso de desorci&oacute;n de ox&iacute;geno superficial que ocurre en presencia de C<sub>3</sub>H<sub>8</sub> requiere de la aplicaci&oacute;n de una energ&iacute;a de activaci&oacute;n, en este caso, procedente del calentamiento de las muestras, el cual es referido como <i>T</i><i><sub>m</sub></i>.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">La <a href="#f7">Fig. 7</a> muestra el comportamiento de <i>S</i> de la pel&iacute;cula SOR450&#45;B como funci&oacute;n de C<sub>C3</sub>H<sub>8</sub>, para las diferentes <i>T</i><i><sub>m</sub></i> empleadas. En &eacute;sta se observa que a temperatura ambiente no hay respuesta al gas, pero a <i>T</i><i><sub>m</sub></i> mayores la <i>S</i> aumenta con la C<sub>C3</sub>H<sub>8</sub>. La magnitud de <i>S</i> es significativa a partir de 200 &deg;C, aunque la m&aacute;xima respuesta se obtiene a <i>T</i><i><sub>m</sub></i> = 300&deg;C. Tambi&eacute;n se observa que a 200 y 300&deg;C y C<sub>C3</sub>H<sub>8</sub> superiores a las 300ppm, la forma de variaci&oacute;n de <i>S</i> cambia, mostrando una raz&oacute;n de cambio mayor conforme aumenta C<sub>C3</sub>H<sub>8</sub>. Este comportamiento est&aacute; asociado con el incremento de la actividad catal&iacute;tica con el aumento de <i>T</i>m y C<sub>C3</sub>H<sub>8</sub>.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">En la <a href="#f8">Fig. 8 (a&#45;d)</a> se muestran las im&aacute;genes obtenidas por microscop&iacute;a de barrido electr&oacute;nico de la superficie de las pel&iacute;culas SO450&#45;A, SO450&#45;B, SOR450&#45;A y SOR450&#45;B, respectivamente. Cabe mencionar que, debido a la baja magnitud del espesor de las pel&iacute;culas las im&aacute;genes no son lo suficientemente claras como para hacer una estimaci&oacute;n precisa del tama&ntilde;o de los granos, no obstante se puede observar que, tanto el espesor de las pel&iacute;culas como la presencia de Ru, influyen sobre la morfolog&iacute;a superficial de las pel&iacute;culas. Las pel&iacute;culas m&aacute;s delgadas (<a href="#f8">Figs. 8a y 8c</a>) muestran una morfolog&iacute;a m&aacute;s lisa y uniforme que las pel&iacute;culas gruesas (<a href="#f8">Figs. 8b y 8d</a>). En contraste, las pel&iacute;culas gruesas, adem&aacute;s de mostrar la presencia de granos de mayor tama&ntilde;o tambi&eacute;n presentan una apariencia m&aacute;s porosa. Las observaciones anteriores justifican la obtenci&oacute;n de valores de sensibilidad mayores en pel&iacute;culas gruesas. Este resultado se puede asociar directamente al incremento del &aacute;rea de la superficie expuesta, llamada &aacute;rea activa, en el caso de las pel&iacute;culas gruesas.</font></p>  	    <p align="center"><font face="verdana" size="2"><a name="f8"></a></font></p>  	    <p align="center"><font face="verdana" size="2"><img src="/img/revistas/sv/v25n2//a10f8.jpg"></font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">Podemos observar tambi&eacute;n que el Ru contribuye, aunque de manera poco significativa, al aumento del tama&ntilde;o de los granos. En conclusi&oacute;n podemos decir que el incremento de la sensibilidad mostrado en las pel&iacute;culas impurificadas con Ru se debe principalmente al efecto catal&iacute;tico del Ru y no a efectos inducidos por el mismo sobre la morfolog&iacute;a de las pel&iacute;culas. No obstante el efecto mostrado del Ru sobre las propiedades sensoras de las pel&iacute;culas depositadas mediante la t&eacute;cnica de roc&iacute;o qu&iacute;mico, se desconoce la ubicaci&oacute;n que tienen los &aacute;tomos de Ru dentro de la red del SnO<sub>2</sub>. Al respecto, basados en los resultados de Chaudhary et al., donde a partir de voltamogramas c&iacute;clicos (mediciones I&#45;V) de pastillas sinterizadas de SnO<sub>2</sub>:Ru demuestran la existencia del Ru en forma reducida (Ru<sup>+3</sup>) &#91;12&#93;, podemos suponer que los &aacute;tomos de Ru pueden estar substituyendo a los &aacute;tomos de Sn en la red del SnO<sub>2</sub>. Este resultado podr&iacute;a ser sustentado con el hecho de tener una resistencia el&eacute;ctrica menor en el caso de pel&iacute;culas de SnO<sub>2</sub>:Ru en comparaci&oacute;n las pel&iacute;culas de SnO<sub>2</sub>, indicando con esto que la impurificaci&oacute;n con Ru conduce a una ganancia de electrones de conducci&oacute;n, los cuales son liberados en el proceso de reducci&oacute;n. Este fen&oacute;meno lo podemos ilustrar de la siguiente manera: la red del SnO<sub>2</sub> puro puede representarse mediante los grupos <i>O=Sn=O</i>, en tanto que, cuando se introduce el Ru, la situaci&oacute;n se transforma en la siguiente: <i>O</i><sup><i>_</i></sup><i>Ru=O+e</i>. Entonces, el reemplazo del Sn con un Ru nos conduce a la ganancia de un electr&oacute;n libre para la conducci&oacute;n.</font></p>  	    ]]></body>
<body><![CDATA[<p align="justify"><font face="verdana" size="2">En la <a href="/img/revistas/sv/v25n2//a10t1.jpg" target="_blank">Tabla 1</a> se presenta un resumen de los resultados obtenidos para las pel&iacute;culas de SnO<sub>2</sub> y SnO<sub>2</sub>:Ru depositadas a 450&deg;C y medidas a <i>T</i><i><sub>m</sub></i> = 300&deg;C y C<sub>C3</sub>H<sub>8</sub>= 500ppm.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">&nbsp;</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2"><b>4. Conclusiones</b></font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">Los resultados obtenidos muestran que es posible emplear pel&iacute;culas delgadas de SnO<sub>2</sub>, no impurificadas e impurificadas con Ru, crecidas por roc&iacute;o qu&iacute;mico para la elaboraci&oacute;n de sensores de C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>. De los resultados obtenidos se confirma que estas pel&iacute;culas son una excelente opci&oacute;n para sensar este tipo de hidrocarburo.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">Los valores m&aacute;ximos de sensibilidad, 4.5 y 7.5, fueron obtenidos para las pel&iacute;culas m&aacute;s gruesas de SnO<sub>2</sub> y SnO<sub>2</sub>:Ru, respectivamente, a <i>T</i><i><sub>m</sub></i> = 300<sup>o</sup>C y una concentraci&oacute;n de 500 ppm de C<sub>3</sub>H<sub>8</sub>. Estos resultados sugieren que las propiedades sensoras de la pel&iacute;cula de SnO<sub>2</sub>, son mejoradas con la adici&oacute;n del Ru.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">&nbsp;</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2"><b>Agradecimientos</b></font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">Los autores agradecen a M. A. Luna&#45;Arias su apoyo t&eacute;cnico en este trabajo; as&iacute; como el apoyo econ&oacute;mico parcial del Consejo Nacional de Ciencia y Tecnolog&iacute;a (CONACYT) a trav&eacute;s del proyecto No. 155996.</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2">&nbsp;</font></p>  	    <p align="justify"><font face="verdana" size="2"><b>Referencias</b></font></p>  	    ]]></body>
<body><![CDATA[<!-- ref --><p align="justify"><font face="verdana" size="2">&#91;1&#93;. T. Seiyama, A. Kato, K. Fujiishi, M. Nagatani, Analytical Chemistry. <b>34</b>,1502(1962).    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=9695322&pid=S1665-3521201200020001000001&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></font></p>  	    <!-- ref --><p align="justify"><font face="verdana" size="2">&#91;2&#93;. P. Mitra, A.P. Chartterjee, H.S. Maiti, Materials Letters <b>35,</b> 33 (1998).    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=9695324&pid=S1665-3521201200020001000002&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></font></p>  	    <!-- ref --><p align="justify"><font face="verdana" size="2">&#91;3&#93;. K. Jim, H. Do Sang, S. Ishwar, L. H. Doek, W. J. Suk, Sensors and actuators B <b>107,</b> 825 (2005).    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=9695326&pid=S1665-3521201200020001000003&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></font></p>  	    <!-- ref --><p align="justify"><font face="verdana" size="2">&#91;4&#93;. P.T. Moseley, Solid State Gas Sensors, Bristol (1987).    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=9695328&pid=S1665-3521201200020001000004&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></font></p>  	    <!-- ref --><p align="justify"><font face="verdana" size="2">&#91;5&#93;. M.J. Madau, S.R. Morrison, Chemical Sensing with Solid State Devices, Academic Press (1989).    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=9695330&pid=S1665-3521201200020001000005&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></font></p>  	    ]]></body>
<body><![CDATA[<!-- ref --><p align="justify"><font face="verdana" size="2">&#91;6&#93;. I.A. Myasniko, V.Y. Suckarev, L.Y. Kupriyanov, S.A. Zavyalov, Semiconductor Sensors in Physico&#45;Chemical Studies Handbook of Sensors and Actuators 4, Elsevier, Amsterdam (1996).    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=9695332&pid=S1665-3521201200020001000006&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></font></p>  	    <!-- ref --><p align="justify"><font face="verdana" size="2">&#91;7&#93;. P. Mitra, A.P. Chartterjee, H.S. Maiti, Materials Letters <b>35,</b> 33 (1998).    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=9695334&pid=S1665-3521201200020001000007&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></font></p>  	    <!-- ref --><p align="justify"><font face="verdana" size="2">&#91;8&#93;. K. Jim, H. Do Sang, S. Ishwar, L. H. Doek, W. J. Suk, Sensors and actuators B <b>107,</b> 825 (2005).    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=9695336&pid=S1665-3521201200020001000008&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></font></p>  	    <!-- ref --><p align="justify"><font face="verdana" size="2">&#91;9&#93;. V.A Chaudhary, I.S. Mulla, K. Vijayamohanan, Sensors and Actuators B <b>50</b>, 45 (1998)</font>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=9695338&pid=S1665-3521201200020001000009&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p align="justify"><font face="verdana" size="2">&#91;10&#93;. P. Menini, F. Parret, M. Gerrero, K. Soulanica, L. Erades, A. Maisonnat B. Chaudret, Sensors and Actuators B <b>103,</b> 111 (2004).    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=9695339&pid=S1665-3521201200020001000010&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></font></p>  	    <!-- ref --><p align="justify"><font face="verdana" size="2">&#91;11&#93;. A.R. Phani, S. Manorama, V.J. Rao, Material Chemistry and Physics <b>58</b>, 101 (1999).    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=9695341&pid=S1665-3521201200020001000011&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></font></p>  	    <!-- ref --><p align="justify"><font face="verdana" size="2">&#91;12&#93;. R.S. Niranjan, V.A. Chaudhary, S.R. Sainkar, K.R. Patil, K. Vijayamohanan, I.S. Mulla, Sensors and Actuators B <b>79</b>, 132 (2001).    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=9695343&pid=S1665-3521201200020001000012&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></font></p>  	    <!-- ref --><p align="justify"><font face="verdana" size="2">&#91;13&#93;. S.V. Manorama, C.V. Gopal Redy, V.J. Rao, Applied Surface Science <b>174</b>,93 (2001).    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=9695345&pid=S1665-3521201200020001000013&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></font></p>  	    <!-- ref --><p align="justify"><font face="verdana" size="2">&#91;14&#93;. V. A.Chaudhary, I. S. Mulla, K. Vijayamohanan, Sensors and Actuators B <b>50</b>, 45(1998).    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=9695347&pid=S1665-3521201200020001000014&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></font></p>      ]]></body><back>
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