Cobalt nitride films produced by reactive pulsed laser deposition
W. De La Cruz, O. Contreras, G. Soto, and E. Pérez–Tijerina*, **
Centro de Ciencias de la Materia Condensada, UNAM, Apartado Postal 2681, 22800 Ensenada B.C., México.
* Laboratorio de Nanociencias y Nanotecnología, FCFM–UANL, Av. Universidad s/n, Cd. Universitaria. San Nicolás de los Garza, N.L., México.
** Corresponding Author: Tel: +52 8183294030, ]]> e–mail: eg–perez@fcfm.uanl.mx
Recibido el 27 de febrero de 2006
Aceptado el 26 de septiembre de 2006
Abstract
The nitrides of magnetic metal are becoming important due to their potential technological applications. In this work cobalt nitride thin films are deposited by reactive pulsed laser deposition (nitrogen environments) on silicon substrates at room temperature. The resultant films are characterized in–situ by Auger, X–Ray Photoelectron and Electron Energy Loss Spectroscopies. The chemical bond of the CoNx is strongly linked to the stoichiometry, and it can be controlled by the N background pressure. We conclude that this deposition method offers a means for fine–tuning the properties of cobalt nitride.
Keywords: Cobalt nitride; X–ray photoelectron spectroscopy; electron energy loss spectroscopy; thin films; laser ablation.
Resumen
]]> Los Nitruros de metales magnéticos han tomado gran importancia debido a sus potenciales aplicaciones tecnológicas. En este trabajo se han depositado capas delgadas de Nitruro de Cobalto usando la técnica de ablación láser pulsado reactivo en ambiente de nitrógeno. Se han usado sustratos de silicio a temperatura ambiente. Las capas resultantes se caracterizaron in situ por espectroscopías Auger, de foto–emisión de rayos X y de pérdida de energía. El enlace químico y la estequiometría están fuertemente correlacionados, y ambos son controlados simultáneamente por la presión durante el depósito. Concluimos que este método de síntesis permite tener un control muy fino de las propiedades de capas delgadas de Nitruro de Cobalto.Descriptores: Nitruro de Cobalto; espectroscopia de electrones fotoemitidos; espectroscopía de pérdidas de energía; capas delgadas; ablación láser.
PACS: 79.60–i; 75.70–i; 77.84.Bw
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Acknowledgments
The authors wish to thank V. García, J. Díaz H., J. Peralta, and P. Casillas for their valuable technical assistance, and CONACYT project 40183–F and DGAPA–UNAM IN 120306 for financial support.
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