SciELO - Scientific Electronic Library Online

 
vol.57 número2Ecuación de estado cúbica para un fluido simpleEsfuerzo triaxial ideal de Ti, Zr y Hf con estructura fcc: un estudio de primeros principios índice de autoresíndice de materiabúsqueda de artículos
Home Pagelista alfabética de revistas  

Servicios Personalizados

Revista

Articulo

Indicadores

Links relacionados

  • No hay artículos similaresSimilares en SciELO

Compartir


Revista mexicana de física

versión impresa ISSN 0035-001X

Rev. mex. fis. vol.57 no.2 México abr. 2011

 

Investigación

 

Impact of the base doping concentration on the transport mechanisms in n–type a–SiGe:H/p–type c–Silicon Heterojunctions

 

P. Rosales–Quintero, M. Moreno–Moreno, A. Torres–Jacome, F.J. De la Hidalga Wade, J. Molina–Reyes, W. Calleja–Arriaga, and C. Zuñiga–Islas

 

National Institute for Astrophysics, Optics and Electronics, Electronics Department P.O.B. 51 & 216, Z.P 72000, Puebla, México, Tel: (+52) 222–266–3100 ext 1411; Fax: (+52) 222–247–2742. e–mail: prosales@inaoep.mx

 

Recibido el 4 de junio de 2010
Aceptado el 9 de febrero de 2011

 

Abstract

The charge transport mechanisms occurring in n–type a–SiGe:H on p–type c–Si heteroj unctions were determined by analyzing the temperature dependence of the current–voltage characteristics in structures with four different peak base doping concentrations (NB = 1 x 1015, 7 x 1016, 7 x l017 and 5 x lO18 cm–3). From the experimental results, we observed that at low forward bias (V< 0.45V) the current is determined by electron diffusion from the n–type amorphous film to the p–type c–Si for the heterojunction with NB = 1 x 1015cm–3, whereas the Multi–Tunneling Capture Emission (MTCE) was identified as the main transport mechanism for the other base doping concentrations. On the other hand, at high forward bias (V> 0.45V), the space charge limited current effect became the dominant transport mechanism for all the measured devices. Under reverse bias the transport mechanisms depends on the peak base doping, going from carrier generation inside the space charge region for the lowest doping, to hopping and thermionic field emission as the base doping concentration is increased.

Keywords: Amorphous semiconductors; heterojunction diodes; transport mechanisms; base doping concentration.

 

Resumen

Heterouniones de a–SiGe:H tipo–n sobre silicio cristalino tipo–p con cuatro diferentes concentraciones pico en la base (l x lO15, 7 x lO16, 7 x l017 y 5 x lO18 cm–3) fueron fabricadas y caracterizadas. Los mecanismos de transporte se determinaron por medio de sus curvas características de corriente vs voltaje en función de la temperatura. El análisis de los resultados muestra que a bajos voltajes de polarización directa (V< 0.45V) en la heterounión con la menor concentración pico la corriente es determinada por la difusión de electrones del a–SiGe:H tipo–n hacia el silicio cristalino tipo–p. Mientras que el multituneleo captura–emisión (MTCE) es el principal mecanismo de transporte en las otras heterouniones. A altos voltajes de polarizacion directa (V> 0.45V) el efecto de corriente limitada por carga espacial (SCLC) es el mecanismo de transporte dominante en todos los dispositivos caracterizados. El incremento en la concentración de dopantes en la base, además, causa un aumento en la corriente inversa.

Descriptores: Semiconductores amorfos; heterouniones; mecanismos de transporte; concentración de dopantes en la base.

 

PACS: 85.30.Kk; 73.40.Lq; 73.50.Gr

 

DESCARGAR ARTÍCULO EN FORMATO PDF

 

References

1. W. Luft and Y. Simon Tsuo, Hydrogenated Amorphous Silicon Alloy Deposition Process (Marcel Dekker, Inc., 1993). pp. 27.         [ Links ]

2. A. Kosarev, M. Moreno, A. Torres, S. Rumyantsev, and I. Cosme, Thin Solid Films 518 (2009) 3310.         [ Links ]

3. M.L. García Cruz, A. Torres, A. Kosarev, and R. Ambrosio, Journal of Non–Crystalline Solids 329 (2003) 179.         [ Links ]

4. M.A. Jimenez Domínguez, (Master Thesis in Spanish, INAOE, Puebla, México, 2008).         [ Links ]

5. H. Matsuura, IEEE–TED 36 (1989) 2908.         [ Links ]

6. L.F. Marsal, J. Pallares, X. Correig, J. Calderer, and R. Alcubilla, Semiconductor Sci. Technol. (1998) 1148.         [ Links ]

7. L.F. Marsal, J. Pallares, X. Correig, J. Calderer, and R. Alcubilla, J. Appl. Phys. 70 (1996) 8493.         [ Links ]

8. Ping Li, Q. Yong, C. Andre, and T. Salama, IEEE–TED 41 (1994)932.         [ Links ]

9. Z.R. Tang T. Kamins, C. Andre, and T. Salama, IEEE–TED 14 (1993)348.         [ Links ]

10. P. Rosales–Quintero et al., J. Appl. Phys. 97 (2005) 97.         [ Links ]

11. Jerzy Kanicki, Amorphous and Micro crystalline Semiconductor Devices Vol. II (Artech House, Inc., chapter 11, 1992). pp 542.         [ Links ]

12. D.M. Garner and G.A.J. Amaratunga, IEEE–ED 43 (1996) 1890.         [ Links ]

13. C. Zúñiga–I et al., Phys. Status Solidi C 7 (2010) 808.         [ Links ]

14. L.F. Marsal, J. Pallares, X. Correig, J. Calderer, and R. Alcubilla, Semiconductor Sci. Technol. (1996) 1209.         [ Links ]

15. A. Rose, Phys. Rev. 97 (1955) 1538.         [ Links ]

16. L. Magafas, N. Georgoulas, and A. Thanailakis, Semiconductor Sci. Technol. (1992) 1363.         [ Links ]

17. L.F. Marsal et al., J. Appl. Phys. 85 (1999) 1216.         [ Links ]

18. R.J. Nemanich and M.J. Thompson, in: B.L. Sharma, Editor. Metal Semiconductor Schottky Barrier Junction and Their Applications (Plentum Press, Inc., Chapter 9, 1984). pp. 52.         [ Links ]

19. B. Van Zeghbroeck (2007). Principles of Semiconductor Devices. Chapter. 2. Sec. .2.6.4.2 appendix 3. Available: http://ecee.colorado.edu/~bart/book/        [ Links ]

Creative Commons License Todo el contenido de esta revista, excepto dónde está identificado, está bajo una Licencia Creative Commons