Multipactor suppressing titanium nitride thin films analyzed through XPS and AES

M. Castro–Colinª, W. Durrerª, J.A. Lópezª, L.A. Pinalesª, C. Encinas Baca ^b, and D. Moller ^b

ª Physics Department, University of Texas, El Paso, El Paso, TX 79968, USA.

^b Centro de Materiales Avanzados, Chihuahua, Chihuahua, México

Recibido el 14 de mayo de 2007
Aceptado el 26 de octubre de 2007

Abstract

Cathodic–magnetron–deposited titanium nitride films were grown on anodized aluminum substrates and studied via AES and XPS spectro–scopies to determine their depth–dependence composition. As it is well known, the native oxide grown on aluminum does not make the substrate impervious to radio frequency damage, and typically a thin film coating is needed to suppress substrate damage. In this article we present the profile composition of titanium nitride films, used as a protective coating for aluminum, that underwent prior conditioning through anodization, observed after successive sputtering stages.

Keywords: Thin film; magnetron deposition; multipactor; XPS; AES; anodization.

Resumen

Películas de nitruro de titanio fueron depositadas utilizando un método magnetrón–catódico sobre sustratos de aluminio anodizado y estudiadas via AES así como XPS, para determinar la composición de las películas en función del grosor. Como es sabido, el óxido natural que crece sobre aluminio es susceptible al daño por radio frecuencias, de modo que es necesario suprimir tal daño por medio de un recubrimiento. En este artículo presentamos el perfil de composición de películas de nitruro de titanio, utilizadas como recubrimiento protector de aluminio, estudiadas tras la aplicación de etapas sucesivas de sputtering; las películas fueron previamente anodizadas.

Descriptores: Películas delgadas; deposición via magnetrón; multipactor; XPS; AES; anodización.

PACS: 79.20.Fv; 79.20.Rf; 79.60.–i; 81.15.–z; 82.45.Cc; 81.70.Jb

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