SciELO - Scientific Electronic Library Online

 
vol.53 suppl.3Use of the associated particle technique for the measurement of neutron cross sections at small anglesSecondary gamma-ray detection a powerful technique for low nuclear cross section studies índice de autoresíndice de materiabúsqueda de artículos
Home Pagelista alfabética de revistas  

Servicios Personalizados

Revista

Articulo

Indicadores

Links relacionados

  • No hay artículos similaresSimilares en SciELO

Compartir


Revista mexicana de física

versión impresa ISSN 0035-001X

Rev. mex. fis. vol.53  supl.3 México feb. 2007

 

XANES and EXAFS study of the TiN Thin films grown by the pulsed DC sputtering technique assisted by balanced magnetron

 

A. Duarte-Mollerª ,b, H. Esparza Ponceb, I. Yocupicioc,*, and C. González-Valenzuelab

 

ª Departamento de Física, Universidad de Sonora, Blvd. Rosales s/n Hermosillo, Son., 83000, México.

b Centro de Investigación en Materiales Avanzados, S.C., Miguel de Cervantes 120, Complejo Industrial Chihuahua Chihuahua, Chih. 31109, México.

c Universidad de Sonora, Unidad Regional Sur Lázaro Cardenas, #100 Col. Fco. Villa, Navojoa, Sonora. * Estudiante del Doctorado en Ciencia de Materiales, CIMAV.

 

Recibido el 2 de marzo de 2006
Aceptado el 18 de agosto de 2006

 

Abstract

A series of different Tix Ny thin films were grown by the DC-sputtering technique. The purpose for this work was to study through XAS interpretation, how the different amounts of N2 during growing thin TiN thin films, affects the stoichiometry of the TiN deposited. Also the results obtained determinate how to interpret the spectra to see the different valences of Ti in TiN, are working. The results were supported with the EXAFS and XANES analysis. This work concludes the adequated conditions for this experiment to obtain TiN as thin film by the DC sputtering assited by pulsed balanced magnetron at room temperature and aconcludes which XANES spectra are the finger print for valences of Ti.

Keywords: TiN; Nitruration; thin films; PLD.

 

Resumen

Se creció una serie de películas delgadas de Tix Ny mediante la técnica de DC sputtering asistido por magnetrón balanceado en modo pulsado. El propósito del trabajo fue el de estudiar, mediante la interpretación de XAS, como las diferentes cantidades de nitrógeno suministrado durante el crecimiento de las películas delgadas de TiN, afecta la estequiometría del TiN depositado. También los resultados obtenidos determinan como se interpretan los espectros para observar las diferentes valencias del Ti en el TiN. Los resultados fueron obtenidos mediante el análisis XANES y EXAFS. Este trabajo concluye las condiciones adecuadas para este experimento y obtener TiN como película delgada mediante DC sputtering asistido por magnetrón balanceado en modo pulsado a temperatura ambiente y establece cual de de los espectros de XANES es la huella digital de las valencias de TiN.

Descriptores: Películas delgadas; TiN; nitruración.

 

PACS: 82.80.Dx; 68.55.-a; 81.15.Aa

 

DESCARGAR ARTÍCULO EN FORMATO PDF

 

Acknowledgments

The author would like to acknowledge to the Centro de Investiogación en Materiales Avanzados, S. C. for the technical support.

 

References

1. Y.G. Shen, Y.W. Mai, W.E. McBride, Q.C. Zhang and DR. McKenzie, Thin Solid Films 372 (2000) 257.        [ Links ]

2. Y.G. Shen and Y.W. Mai, Appl. Surf. Sci. 167 (2000) 59.        [ Links ]

3. D,B. Chrisey and G.K. Hubler (Eds.), Pulsed Laser Deposition of Thin Films (Wiley, New York, 1994).        [ Links ]

4.   H.D. Gu, K.M. Leung, C.Y. Chung, and X.D. Han. Surface and Coatings Technology 110 (1998) 153.        [ Links ]

5. C.J. Powell, A. Jablonski, I.S. Tilinin, S. Tanuma, and D.R. Penn, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 9899 (1999) 1.        [ Links ]

6. J.H. Scofield, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 8 (1976) 129.        [ Links ]

7. M. Repoux, E. Darque-Ceretti, M. Casamassima, and J.P Contour, Surf. Interface Anal. 16 (1990) 209.        [ Links ]

8. J.H. Scofield, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 8 (1976) 129.        [ Links ]

9. C. Kittel, Introduction to solid state Physics, 6th edition (John Wiley & Sons Inc. New York, 1986).        [ Links ]

10. S. Tougaard, Surf. Interface Anal. 11 (1988) 453.        [ Links ]

11. C.D. Wagner, W.M. Riggs, L.E. Davis, J.F. Moulder, and G.E. Muilenberg, Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy, Perkin-Elmer, Eden Praire, MN USA, 1979.        [ Links ]

12. 1. Bertoti, M. Mohai, J.L. Sullivan, and S.O. Saied, Appl. Surf. Sci. 84 (1995) 357.        [ Links ]

13. F. Esaka et al., J. Vac. Sci. Technol. A. 15 (1997) 2521.        [ Links ]

14. M.F. Doutora and Montemor. Instituto Superior Tecnico. INESC, Lisbon. Juiho de 2002.        [ Links ]

15. P. Lin et al., J. Vac. Sci. Technol. A 5 (1987) 2732.        [ Links ]

16. Fu-Hsing Luu and Hong-Ying Chen,. Surface and Coatings Technology 130 (2000) 290.        [ Links ]

17. BryCoat Inc. Ah rights reserved. Copyright ©2003.        [ Links ]

18. K.A. Pischow et al., Surf. Coat. Technol. 67 (1994) 85.        [ Links ]

19. M. De Crescenzi, Solid State Comm. 90 (1981) 613.        [ Links ]

20. M. De Crescenzi, Surf. Sci. Reports 21 (1995).        [ Links ]

21. E.A. Stern, D.E Sayers, and F.W. Lytle, Physical Review 11 (1975) 4836.        [ Links ]

22. JCPDS—INTERNL. CENTRE FOR DIFFRACTION DATA LICENSE 38-1420.        [ Links ]

23. A.G. MacKale, G.5. Knapp, and S.K. Chan, Phys. Rey. B 33 (1986) 841.        [ Links ]

24. A.G. McKale, G.5. Knapp, B.W. Veal, A.P. Pauhikas, and S.K. Chan, Phys. Rey. B 15.        [ Links ]

25. Chance et al., Biochemistry 35 (1996) 9014.        [ Links ]

Creative Commons License Todo el contenido de esta revista, excepto dónde está identificado, está bajo una Licencia Creative Commons