Ion beam analysis of CH/Si layers deposited by ECR-CVD

 

J.A. Mejía Hernández^c,d, G. Murilloª ^,*, R. Policroniadesª, E. Andrade^b, E. Camps^d, S. Muhl^c, and E.P. Zavala^b

 

ª Acelerador Tandem, ININ, Depto. del Acelerador, Apartado Postal 18-1027, 11801 México D.F.

^b Instituto de Física, Universidad Nacional Autónoma de México, Apartado Postal 20-364, 01000 México D.F.

^c Instituto de Investigaciones de Materiales, Universidad Nacional Autónoma de México, Apartado Postal 70-360, 04510 México, D.F.

^d Departamento de Física, ININ, Apartado Postal 20-364, 01000 México D.F.

 

Correspondencia:
* Tel. +52 55 5329-7200, ext. 2335,
e-mail: gmo@nuclear.inin.mx

 

Recibido el 2 de marzo de 2006
Aceptado el 18 de agosto de 2006

 

Abstract

We present in this study the characteristics of CH layers deposited on Si substrates using an electron cyclotron resonance (ECR) microwave plasma source with different H₂/CH₄ mixtures. Quantification of the hydrogen and carbon content and the thickness of the films was determined by Forward Elastic Scattering with a 8.45 MeV ¹²C³⁺ beam. The oxygen concentration in the films was measure by Nuclear Reaction Analysis (NRA) using a 1.040 MeV deuterium.

Keywords: Plasma enhanced chemical vapor deposition; thin films; IBA methods.

 

Resumen

En este trabajo se estudia las características de las capas de CH depositadas en sustratos de Si por una fuente de plasma de micro ondas del tipo Resonancia Ciclotrónica Electrónica (ECR), usándose diferentes mezclas de H2/CH4. El contenido de hidrógeno y carbono, así como el espesor de las películas se determinó por la dispersión hacia delante de un haz de 12C3+ con una energía de 8.45 MeV, y el bajo contenido de oxígeno en las mismas se determinó usando un haz de deuterio de 1.040 MeV llevando a cabo un análisis de reacciones nucleares (NRA).

Descriptores: Películas delgadas; métodos de análisis con haz de acelerador.

 

PACS: 52.Hr; 82.80.Yc; 73.61.r

 

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Acknowledgements

The authors wish to thank P. Villaseñor for the operation of the Tandem Accelerator. This work was partially supported by DGAPA_UNAM under the project 228603-3.

 

References

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