Investigación

 

Estudio del comportamiento ante la corrosión de películas delgadas de Ni y óxido de Ni obtenidas por espurreo catódico frente a un medio amargo

 

C.R. Magaña-Zavala ^a, F.J. Rodríguez-Gómez ^a, D.R. Acosta ^b y R. Ávila-Godoy ^c

 

^a Dpto. Ing. Metalúrgica, Facultad de Química, Universidad Nacional Autónoma de México 04510 - México D.F., Phone: + 52 55 5622 5225.

^b Instituto de Física, Universidad Nacional Autónoma de México, Apartado Postal 20-264, 01000, D.F., México.

^c Dpto. de Física, Universidad de los Andes, Mérida-Venezuela.

 

Recibido el 11 de febrero de 2005.
Aceptado el 31 de octubre de 2005.

 

Resumen

En este trabajo se presenta el estudio del comportamiento de películas delgadas de níquel y un óxido superior de níquel obtenidas por espurreo catódico sobre acero AISI 1018 (UNS G 10180), con el propósito de disminuir la velocidad de corrosión del acero al carbono cuando se expone a un medio amargo (presencia de ácido sulfhídrico y cloruros) y alargar la vida útil de las estructuras petroquímicas metálicas, con lo que se ahorraría una importante cantidad de recursos monetarios y humanos. La caracterización de las superficies se realizó utilizando las técnicas electroquímicas[1] (curvas de polarización y espectroscopía de impedancia electroquímica).

Descriptores: Níquel; espurreo catódico; medio amargo.

 

Abstract

The aim of this work is to study the behavior of nickel and nickel oxide thin films obtained by cathodic sputtering on steel AISI 1018 (UNS G 10180), with the purpose of diminishing the corrosion rate of low carbon steel when it is exposed to a sour medium (sulphidric acid and chlorides) and to extend the life of metallic petrochemical structures which would result in an important amount of monetary and human resources savings. The characterization of the surfaces was carried out by electrochemical techniques, such as polarization curves and electrochemical impedance spectroscopy.

Keywords: Nickel; cathodic sputtering; sour medium.

 

PACS: 81.15.cd; 81.65.Mq

 

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Agradecimientos

Los autores desean agradecer por su colaboración en la realización de este trabajo a las siguientes personas e instituciones: Instituto de Física UNAM, H. Cruz Manjarrez, M. Aguilar, C. Ojeda, G. Rayo, Facultad de Química UNAM, Dr. Joan Genescá y del I.Q.M. C. Rodríguez Rivera. Y al financiamiento del proyecto IN103705 DGAPA.

 

Referencias

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