Resumen

ALVAREZ ROMERO, G. A.; RAMIREZ-SILVA, M. T.; ROJAS-HERNANDEZ, A.  y  HERNANDEZ-RODRIGUEZ, P. R.. Monitoring of the pH using ISFET sensors in electroplating processes. J. appl. res. technol [online]. 2005, vol.3, n.3, pp.163-168. ISSN 2448-6736.

Es bien conocido que el electrodepósito de metales ha adquirido una importancia significante como actividad industrial y que representa un área especialmente lucrativa. La calidad y características del depósito metálico dependen de las condiciones electroquímicas impuestas especialmente del pH. Durante electrodepósitos industriales, cuando se detectan los primeros cambios indeseables en el depóstido metálico, es muy común detener el proceso para la completa sustitución del baño de electrodepósito. Lo anterior hace incuestionable la importancia de la aplicación de sistemas de análisis en el monitoreo in situ de cambios en los componentes del baño durante el proceso de electrodepósito. Estos sistemas permitirían el control y ajuste de las concentraciones de los componentes específicos durante el proceso lo que se traduce en ahorros tanto económico como de tiempo. En el presente trabajo se describe la construcción de un sistema de análisis basado en el acoplamiento de un sistema de muestreo continuo con sensores al pH tipo ISFET. Se realizan estudios comparativos entre un electrodo de vidrio y el sistema de análisis propuesto en el monitoreo de baños de depósito de cobre, plata y niquel

Palabras llave : ISFET; Electroplating; Sensor.

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