Resumo

CHAVEZ VELAZQUEZ, Rosa; ZALDIVAR HUERTA, Ignacio; REYES BETANZO, Claudia  e  DIAZ SANCHEZ, Alejandro. Fabricación de guías de onda ópticas en silicio utilizando óxido de silicio y nitruro de silicio. Superf. vacío [online]. 2005, vol.18, n.4, pp.21-23. ISSN 1665-3521.

Se diseñaron y fabricaron guías de onda ópticas planares de índice abrupto utilizando películas de óxido de silicio (SiO2) y nitruro de silicio (Si3N4) obtenidas por técnica PECVD. Debido a las características ópticas, mecánicas y eléctricas, se eligió el silicio como material de sustrato. Pruebas de transmitancia de luz a una longitud de onda de 650 nm fueron realizadas con éxito. La fabricación de guías ópticas es completamente compatible con el proceso CMOS, por lo que se abre la posibilidad de realizar la integración de componentes ópticos y electrónicos en un mismo substrato de silicio.

Palavras-chave : Óptica integrada; Guías ópticas integradas; PECVD; Comunicaciones ópticas.

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