Resumo

LEAL-ROMERO, R. et al. Proceso de grabado seco de silicio monocristalino para aplicaciones en guías de onda coplanares. Rev. mex. fis. [online]. 2010, vol.56, n.1, pp.92-96. ISSN 0035-001X.

En este trabajo se estudia la utilización de grabado anisotrópico y SRO con la finalidad de mejorar el rendimiento de las guías de onda coplanares. Se presentan resultados experimentales de grabado seco de silicio monocristalino para su aplicación en la fabricación de guías de onda coplanares (CPW's) empleando un reactor RIE/ICP. Se observa la contribución de los componentes tanto físicos como químicos de grabado seco. Los gases reactivos que se utilizan son el hexafluoruro de azufre (SF₆) mezclado con oxígeno (O₂). Para el grabado se emplean enmascarantes de fotorresina (FR) y óxido de silicio (SiO₂), este último es obtenido mediante depósito químico en fase vapor a presión atmosférica (APCVD). Se obtienen velocidades de grabado de 2.8 a 3.4 µm/min al utilizar SiO₂ como enmascarante.

Palavras-chave : Silicio monocristalino; guía de onda coplanar (CPW); grabado seco; SRO.

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