Resumo

GARCIA-MENDEZ, M.; MORALES-RODRIGUEZ, S.; MACHORRO, R.  e  DE LA CRUZ, W.. Characterization of ALN thin films deposited by DC reactive magnetron sputtering. Rev. mex. fis. [online]. 2008, vol.54, n.4, pp.271-278. ISSN 0035-001X.

Se utilizó la técnica de erosión iónica reactiva para crecer películas delgadas de nitruro de aluminio (AlN). El propósito principal de este trabajo consistió en analizar el efecto del oxígeno en las propiedades ópticas y estructurales de las películas. Las propiedades estructurales y ópticas de las muestras se caracterizaron con espectroscopia elipsométrica y difracción de rayos X, respectivamente. La microestructura que pueden presentar las películas puede ser hexagonal (tipo wurzita, P6₃3m3) ó cubica (zinc-blenda, Fm3m), dependiendo de las condiciones de depósito. A partir de la medición de los parámetros elipsométricos (ψ,Δ), se utilizó el modelo del oscilador simple de Lorentz para obtener un estimado del ancho óptico, E_g.

Palavras-chave : Erosión iónica reactiva; películas delgadas; AlN.

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