SciELO - Scientific Electronic Library Online

 
vol.54 número2A theoretical quantum study on the distribution of electrophilic and nucleophilic active sites on Cu(100) surfaces modeled as finite clustersFugas de calor y aprovechamiento de efluentes en la optimización de ciclos Brayton totalmente irreversibles índice de autoresíndice de materiabúsqueda de artículos
Home Pagelista alfabética de revistas  

Servicios Personalizados

Revista

Articulo

Indicadores

Links relacionados

  • No hay artículos similaresSimilares en SciELO

Compartir


Revista mexicana de física

versión impresa ISSN 0035-001X

Resumen

SANTIAGO TEPANTLAN, C.; PEREZ GONZALEZ, A.M  y  VALERIANO ARREOLA, I.. Structural, optical and electrical properties of CdS thin films obtained by spray pyrolysis. Rev. mex. fis. [online]. 2008, vol.54, n.2, pp.112-117. ISSN 0035-001X.

Películas delgadas de sulfuro de cadmio han sido preparadas por el método químico de rocío pirolítico, variando la temperatura del substrato en el intervalo de 200 a 400°C. Las propiedades estructurales del material obtenido fueron estudiadas utilizando la técnica de difracción de rayos X, y los patrones de difracción muestran la presencia de la fase hexagonal del CdS. Se obtuvo un ancho de banda entre 2.37 y 2.41 eV, en función de la temperatura de depósito. Las curvas de índice de refraccion fueron obtenidas a partir del espectro de transmisión y por mediciones espectroelipsometricas, de manera que los parámetros ópticos fueron obtenidos usando los modelos de Swanepoel, Cauchy, Sellmeier y Wemple. La resistividad eléctrica en condiciones de oscuridad varío en el rango de 103-105Ω.cm, dependiendo de la temperatura del substrato. Un análisis de los efectos del método de depósito en las propiedades de las películas es presentado.

Palabras llave : Sulfuro de cadmio; rocío pirolítico; propiedades estructurales; propiedades opticas; propiedades eléctricas.

        · resumen en Inglés     · texto en Inglés     · Inglés ( pdf )

 

Creative Commons License Todo el contenido de esta revista, excepto dónde está identificado, está bajo una Licencia Creative Commons