SciELO - Scientific Electronic Library Online

 
vol.52 suppl.2Tin oxide micro/nano fibers from electrostatic depositionCiliary motion in PECVD silicon carbide and silicon oxynitride microstructures índice de autoresíndice de assuntospesquisa de artigos
Home Pagelista alfabética de periódicos  

Serviços Personalizados

Journal

Artigo

Indicadores

Links relacionados

  • Não possue artigos similaresSimilares em SciELO

Compartilhar


Revista mexicana de física

versão impressa ISSN 0035-001X

Resumo

LUNA-LOPEZ, J.A; ACEVES-MIJARES, M; OLEKSANDR, Malik  e  GLAENZER, R. Modelling the C-V characteristics of MOS capacitor on high resistivity silicon substrate for PIN photodetector applications. Rev. mex. fis. [online]. 2006, vol.52, suppl.2, pp.45-47. ISSN 0035-001X.

Este trabajo propone un modelo eléctrico para simular las mediciones C-V del capacitor MOS en silicio de alta resistividad (SAR), el cual es usado como substrato para fotodetectores PIN. Las características C-V del capacitor MOS en SAR difieren considerablemente de las obtenidas en silicio de baja resistividad (SBR) debido a la caída de potencial y tiempo de respuesta de los portadores mayoritarios y minoritarios en el substrato. Las características C-V en substratos de SAR y SBR a diferentes frecuencias fueron modeladas mediante una red de capacitor y resistor en serie, la cual predice los resultados obtenidos experimentalmente.

Palavras-chave : MOS; substratos de silicio de alta y baja resistividad; características C-V en alta y baja frecuencia; tiempo de respuesta de portadores mayoritarios y minoritarios.

        · resumo em Inglês     · texto em Inglês     · Inglês ( pdf )

 

Creative Commons License Todo o conteúdo deste periódico, exceto onde está identificado, está licenciado sob uma Licença Creative Commons