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Revista mexicana de física

Print version ISSN 0035-001X

Abstract

MILLS, A.  and  VALENZUELA, M.A.. Photo-oxidation of water sensitized by TiO2 and WO3 in presence of different electron acceptors. Rev. mex. fis. [online]. 2004, vol.50, n.3, pp.287-296. ISSN 0035-001X.

Se estudió la foto-oxidación del agua en presencia de luz UV (λ < 400nm) empleando óxido de titanio (TiO2) y óxido de tungsteno (WO3, polvo y nanocristalino) con diferentes aceptores de electrones (AE): Fe(NO3)2, Na2S2O8, Ce(SO4)2, Co[(NH3)5 Cl] Cl2, AgNO3, HgCl2 y Cu(NO3)2.. En general, el TiO2 presentó la mayor fotoactividad, produciendo entre 5 y 10 veces más oxígeno que el WO3. En cuanto a las especies iónicas utilizadas en el proceso redox, los iones Ag+ fueron los más efectivos con los tres semiconductores. No se detectó la evolución de oxígeno cuando se utilizaron los iones Hg2+ y Cu2+. El efecto de la concentración de los AE no mostró una tendencia definida, si no que cada sistema (AE+H2O+Semiconductor) tuvo un comportamiento distinto y los resultados se discutieron en función de sus características espectrales.

Keywords : Semiconductores; TiO2; WO3; fotodescomposición del agua; aceptor de electrones.

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