Resumo

ALFONSO-ORJUELA, J.E.; ANDRADE-ZAMBRANO, D.F.  e  ARROYO-0SORIO, J.M.. Refractive index of multiline nanosecond laser-induced periodic surface structures and porous silicon. Rev. mex. fis. [online]. 2011, vol.57, n.6, pp.475-480. ISSN 0035-001X.

Para estudiar el efecto del tratamiento con laser multilínea en la respuesta (óptica del silicio, un conjunto de obleas de silicio tipo p monocristalino con resistividad entre 0,01 y 0,02 Ωm, espesor de 525 μm y orientación [111], fue irradiado con un láser Nd: YAG pulsado multilínea (1064, 532 y 355 nm) aplicando energías entre 310 y 3100 J. Un grupo superficies fue producido utilizando soplado con gas argón, mientras que otro grupo fue fabricado en atmósfera libre. Utilizando microscopía confocal, se observe) que las muestras protegidas con gas presentaron estructuras de superficie periódicas en forma de ondas con un paso promedio de 547 nm. A través de pruebas de reflectancia difusa, se confirma que en proporción a la energía suministrada en el tratamiento láser, estas superficies reflejan entre 10% y 30% en la región UV y entre 60% y 80% en la región IR. De otro lado, las superficies tratadas en atmósfera libre presentaron estructuras y propiedades de difracción características del silicio poroso (PS). El índice de refracción de las superficies con estructuras periódicas se calculó con base en las medidas de reflectancia difusa mientras que el de las superficies tipo PS se calculó utilizando la fracción de vacios (poros) en la superficie que a su vez se determinó con el software de análisis de imágenes del microscopio confocal.

Palavras-chave : Ablación láser; silicio; estructuras periódicas; silicio poroso (PS); índice de refracción.

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