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SWART, J.W. [Autor]
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Reyes-Betanzo, C., Moshkalyov, S. A. and Swart, J.W.
Grabado anisotrópico de silicio para aplicación en micromaquinado usando plasmas de SF
6
/CH
4
/O
2
/Ar y SF
6
/CF
4
/O
2
/Ar
.
Rev. mex. fis.
, 2004, vol.50, no.2, p.203-207. ISSN 0035-001X
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